Țintă de pulverizare cu cobaltat de litiu (LiCoO2).

Pulverizarea este o tehnologie dovedită, capabilă să depună pelicule subțiri dintr-o mare varietate de materiale pe diferite forme și dimensiuni de substrat.
Procesul cu ținte de pulverizare este repetabil și poate fi extins din proiecte mici de cercetare și dezvoltare. Prozele cu pulverizare
țintele pot fi adaptate la loturile de producție care implică suprafețe medii până la mari de substrat. Reacția chimică poate avea loc pe țintă
suprafata, in zbor sau pe substrat in functie de parametrii procesului. Numeroșii parametri fac depunerea prin pulverizare catografică un proces complex, dar permit experților un grad mare de control asupra creșterii și microstructurii zonei.

Țintele de pulverizare sunt utilizate pentru depunerea filmului. Depunerea realizată de ținte de pulverizare este o metodă de depunere a peliculelor subțiri prin pulverizare, care implică erodarea materialului dintr-o sursă „țintă” pe un „substrat” cum ar fi o placă de siliciu.

Țintele de pulverizare cu semiconductor sunt utilizate pentru a grava ținta. Gravarea prin pulverizare este aleasă în cazurile în care este necesar un grad ridicat de anizotropie de gravare și selectivitatea nu este o preocupare. Țintele pulverizate sunt, de asemenea, utilizate pentru analiză prin gravarea materialului țintă.

Tag-uri populare: țintă de pulverizare cu cobaltat de litiu (licoo2), China furnizori de ținte pentru pulverizare cu cobaltat de litiu (licoo2), fabrică