Țintă de pulverizare 4N HfO2
Țintă de pulverizare 4N HfO2

Țintă de pulverizare 4N HfO2

Țintă de pulverizare cu dioxid de hafniu de înaltă-puritate 4N (puritate 99,99%) — potrivită pentru aplicații în acoperiri optice, semiconductori și electronice de precizie. Prezintă densitate mare, compoziție uniformă și performanță stabilă de pulverizare.
Trimite anchetă
Descrierea țintei de pulverizare 4N HfO2

 

Materialul țintă cu dioxid de hafniu este un material funcțional compus din dioxid de hafniu de -puritate ridicată (HfO₂), utilizat în principal în procesele de depunere a peliculei subțiri-, cum ar fi depunerea fizică în vapori (PVD) și pulverizarea cu magnetron. Caracteristicile sale de bază includ un punct de topire ridicat, stabilitate chimică excelentă, proprietăți superioare de izolare electrică și transparență optică în intervale specifice de lungimi de undă. Puritatea ridicată este fundamentală pentru asigurarea uniformității filmelor depuse, a performanței lor optice și a fiabilității dispozitivului, deoarece impuritățile pot duce la defecte ale filmului. Stabilitatea calității materialului țintă se corelează direct cu reproductibilitatea procesului de depunere și randamentul produsului final. Odată cu progresul continuu al tehnologiilor semiconductoare, optoelectronice și de producție avansate, cererea de-ținte de dioxid de hafniu de înaltă performanță crește constant, prezentând perspective largi de piață.

 

Aplicații ale țintei de pulverizare 4N HfO2

 

Fabricarea semiconductoarelor: ca material cu constantă-dielectrică-înaltă (-k) ridicată, este utilizat la fabricarea izolatoarelor avansate de poartă a tranzistorului, contribuind la performanța și miniaturizarea dispozitivului îmbunătățite.
Dispozitive optoelectronice: Datorită proprietăților sale optice excepționale-cum ar fi un indice de refracție ridicat și o pierdere scăzută de absorbție-, este utilizat pe scară largă în acoperirile optice pentru producerea de straturi anti-reflexive, filtre optice, componente laser și filme optice-de înaltă performanță.
Ceramice și acoperiri de specialitate: exploatând duritatea ridicată și rezistența la uzură, servește la fabricarea materialelor ceramice avansate, precum și a acoperirilor de protecție capabile să reziste la temperaturi ridicate și la coroziune.
Cercetare de frontieră: În domenii emergente, cum ar fi calculul cuantic, dioxidul de hafniu demonstrează potențialul de aplicare ca material dielectric pentru qubiți.

 

Specificațiile țintei de pulverizare 4N HfO2

 

Puritate: 99,9%, 99,99%;

Metoda de producere: sinterizare prin presa la cald

Dimensiuni disponibile:

Circular: diametru mai mic sau egal cu 14 inchi, grosime mai mare sau egală cu 3 mm;

Dreptunghiular: lungime mai mică sau egală cu 14 inchi, lățime mai mică sau egală cu 10 inchi, grosime mai mare sau egală cu 3 mm.

Tip de legătură: Indiu

 

Controlul calității și testarea țintei de pulverizare cu HfO2 4N

 

2QC

 

Întrebări frecvente pentru ținta de pulverizare 4N HfO2

 

esti un fabrica sau aproducător?
R: Da, suntem o fabrică 4N HfO2 Sputtering Target, dar în general folosim compania noastră comercială pentru a gestiona afacerile în străinătate. Va fi mai convenabil să primiți remiterea și să aranjați expedierea.

Care este metoda de livrare?
R: În general, trimitem ținta de pulverizare 4N HfO2 prin UPS, DHL sau FedEx. De asemenea, putem trimite pe mare într-un port maritim sau cu avionul la cel mai apropiat aeroport.

De ce este ținta dvs. de pulverizare 4N HfO2 atât de rentabilă?
R: Eliminam intermediarii la final-pentru-procesul de fabricație și obținem materie primă direct din sursa acesteia.

Faceți inspecție de calitate la fața loculuiproduse?
R: Inspecție completă 100% cu siguranță. Toate țintele necalificate de pulverizare cu HfO2 4N sunt aruncate.

Cum vă asigurați timpul de livrare?
R: De la pregătirea materialului până la prelucrare și în final până la o inspecție completă. Fiecare etapă a producției este strict monitorizată și controlată pentru a vă oferi un timp de livrare precis.

Care este MOQ-ul țintei de pulverizare 4N HfO2?
R: Depinde de cantitatea de țintă de pulverizare 4N HfO2; în general, fără limită MOQ.

Cum să plăteștiprodusele?
R: Un transfer bancar (T/T) va fi acceptabil.

Care este timpul de livrare?
R: Aproximativ 7-20 de zile, care depinde de cantitatea și producția de țintă de pulverizare 4N HfO2.

Ce fel de pachet este?
R: În general, folosim o carcasă de carton sau placaj cu material de protecție în interior pentru a asigura siguranța țintei de pulverizare 4N HfO2.

Care este timpul de livrare?
R: De la comanda plasată până la primirea mărfii va dura aproximativ 10-25 de zile.

 

4

 

Tag-uri populare: ținta de pulverizare 4n hfo2, China 4n hfo2 furnizori de ținte de pulverizare, fabrică